以打印机和相机闻名的日本公司佳能在10月13日星期五推出了一项创新解决方案，以帮助生产尖端的半导体元件。根据美国消费者新闻与商业频道的说法，佳能最近推出的“纳米压印光刻”系统代表了该公司对荷兰公司AL的竞争回应，AL是极紫外(EUV)掩模对准器的主导力量。AL的机器对生产尖端芯片至关重要，包括用于最新苹果iPhone的芯片。
这些机器的使用已经卷入了美国和中国之间的技术冲突。美国采取了出口限制和各种制裁措施，旨在阻止中国获得关键芯片和制造机械，阻止世界第二大经济体在一个被认为落后的领域取得进展。
AL的EUV技术因其在5 nm及以下尺寸半导体生产中的关键作用而受到领先芯片厂商的广泛关注。这种纳米测量涉及芯片特征的大小，更小的值可以容纳芯片上更多的特征，从而提高半导体性能。
据报道，佳能宣布其新系统FPA-1200NZ2C可以生产匹配5nm工艺的半导体，并且可以缩小到2nm，超过苹果iPhone 15 Pro和Pro Max中A17 Pro芯片(3nm半导体)的能力。
荷兰政府对AL实施了限制，以防止其EUV光刻机出口到中国，但它尚未向中国交付。这种限制之所以存在，是因为这些机器在尖端半导体芯片的生产中起着关键作用。佳能声称他们的新机可以促进相当于2nm的半导体的生产，因此很可能面临更严格的审查。
此前有报道称，拜登政府正在瞄准一个漏洞，该漏洞允许中国开发商从中国南方城市深圳臭名昭著的华强北电子区购买芯片。然而，中国发布了一项针对提供人工智能(AI)生成服务的公司的安全规定草案，其中包括对用于AI模型训练的数据源的限制。
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原文地址"佳能产业，佳能半导体设备股份有限公司"：http://www.ljycsb.cn/qukuailian/207488.html。
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